FF14伊甸E10怎么打?國(guó)服5.4版本已經(jīng)正式開啟了。全新的伊甸希望樂園再生篇也正式上線了，還不是很了解普通難度的E10怎么打的小伙伴們，下面就一起來看看吧。

E10普通難度通關(guān)攻略

普通難度的伊甸就沒有那么固定的時(shí)間軸了，對(duì)于團(tuán)傷也沒有什么特別的要求，基本上會(huì)機(jī)制就可以過了。

簡(jiǎn)易文字攻略

Forward/Backward Impolsion：BOSS的前方/后方180°AOE，請(qǐng)根據(jù)讀條判斷躲避。

Forward/Backward Shadow Impolsion：這是BOSS的核心技能。BOSS會(huì)亮出自己的影子，影子會(huì)面朝場(chǎng)中央。這是BOSS的真正面向，以此躲避BOSS的前方/后方180°AOE。

Deep Shadow Nova：全屏AOE。

Spawn Shadow：召喚3個(gè)影子，與BOSS連線的影子是他的真身。

影子會(huì)隨機(jī)順時(shí)針或者逆時(shí)針轉(zhuǎn)換位置若干次。等他跳完之后迅速跑到真身后方躲避其前方180°AOE。

Fade to Shadow：在對(duì)角線召喚2個(gè)影子，釋放可見大范圍圓形AOE。在另兩個(gè)角落可以躲避。

一定階段之后，BOSS會(huì)站起身釋放可見鋼鐵范圍攻擊。進(jìn)入P2階段。

Umbra Smash：攻擊MT4次，給其疊加4層易傷。ST可以考慮遠(yuǎn)離人群并挑釁換T(普通難度不是必需，請(qǐng)事先商量是否換T)。

之后BOSS讀條Shadows Edge，對(duì)MT釋放直線范圍的死刑攻擊。ST如果挑釁吃這個(gè)傷害的話，記得務(wù)必提前遠(yuǎn)離人群。

Left/Right Giga Slash：BOSS的左側(cè)/右側(cè)180°AOE，請(qǐng)根據(jù)讀條判斷躲避。

Left/Right Shadow Slash：BOSS的影子的左側(cè)/右側(cè)180°AOE(影子面向判斷和前相同)。

Void Gate：踩3個(gè)塔，兩人一塔。進(jìn)塔會(huì)附加流血DEBUFF，請(qǐng)注意。

從此時(shí)開始，BOSS的每次Shadow Impolsion/Shadow Slash會(huì)先后召喚2-3個(gè)不同方向的影子，影子會(huì)逐一攻擊。請(qǐng)務(wù)必全部躲避。

Distant Scream：從場(chǎng)地中央向外側(cè)的擊退，開防擊退處理。別被擊退到場(chǎng)地邊緣的即死陷阱里。

之后BOSS會(huì)重新蹲下，進(jìn)入P3。

P3會(huì)在P1基礎(chǔ)上增加下述技能：

Shadowy Eruption：點(diǎn)全員腳底下的黃圈。第一次讀條固定是出現(xiàn)1個(gè)黃圈。之后的讀條會(huì)先后點(diǎn)多個(gè)，走位躲避。

Fade to Shadow與Forward/Backward Impolsion的組合技：請(qǐng)根據(jù)面向判斷BOSS攻擊的范圍，在安全一側(cè)的角落躲避影子的黃圈。

P2與P3重復(fù)，直到擊破。

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